Nicomp® 3000
納米激光粒度儀

動態(tài)光散射儀

具有50+年歷史
專為復雜體系提供高精度粒度解析方案
助您探索納米宇宙的精微奧秘！

0.9°步進型多角度（MADLS）真正的多角度模塊

不同粒徑的納米粒子，尤其是粒徑遠小于激光波長的粒子在傳統(tǒng)的動態(tài)光散射理論下，力度分布（PSD）會失去一些細節(jié)。Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列開創(chuàng)性地配備了可以從14.4°-180°范圍內(nèi)，步長0.9°的多角度模塊，對特殊樣品（如極小粒徑）可以選用合適的角度進行檢測，顯著提高對復雜體系的分辨力。

復用型直插靶電級，減少耗材成本

Zeta電位檢測模塊，采用雙列直插式靶電極，清潔方便，易于清洗，可以反復使用。既保護了環(huán)境，也大大減少了使用一次性可丟棄的電極模塊的成本。

專有的Nicomp®多峰分布，可分辨1:2的多組分

Entegris（PSS）Nicomp® 3000系列搭載了Nicomp®多峰算法，可以有效區(qū)分不同粒徑（1：2的不同組分），為復雜體系和多組分體系提供了強有力的生產(chǎn)工具。

（下圖為同一復雜體系樣品分別在高斯算法和Nicomp®算法所呈現(xiàn)的結(jié)果）

高斯粒徑分布圖

Nicomp®多峰粒徑分布圖

自動稀釋模塊和自動進樣模塊，減少試錯成本和人工誤差

Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列在動態(tài)光散射法上應(yīng)用了自動稀釋模塊和自動進樣模塊，既可以有效避免人工稀釋所帶來的試錯成本和誤差，更可以實現(xiàn)檢測的自動化操作，為大批量的檢測提供了良好的解決方案。

產(chǎn)品介紹
PRODUCT INTRODUCTION
   

Nicomp® Z3000納米粒度及ZETA電位分析儀

檢測范圍

粒徑檢測：0.3nm-10.0μm

Zeta電位：-500mV-+500mV

應(yīng)用領(lǐng)域

MINI DLS在線納米激光粒度儀/在線動態(tài)光散射儀

無需校準
*hydrodynamic radius，流體動力學半徑

應(yīng)用領(lǐng)域

均質(zhì)機/研磨機下游的粒度控制
脂質(zhì)體和乳劑等納米制劑產(chǎn)品的生產(chǎn)監(jiān)控
CMP漿料（研磨液）的磨損監(jiān)控
納米材料生產(chǎn)過程中粒度監(jiān)控

儀器原理
PRINCIPLE
   

動態(tài)光散射方法(Dynamic Light Scattering)原理示意圖

Zeta電位工作原理示意圖

Zeta電位用于測試顆粒之間排斥力 ，是判斷體系穩(wěn)定性的測量手段。

布朗運動的一個重要特點是：小粒子運動快速，大顆粒運動緩慢。由于粒子在不停地運動，散射光斑也將出現(xiàn)移動。由于粒子四處運動，散射光的相位疊加，將引起光亮區(qū)域和黑暗區(qū)域呈光強方式增加和減少或以另一種方式表達，光強也成波動形式。即：粒子的布朗運動導致光強的波動。

通過拉普拉斯逆轉(zhuǎn)換，將光信號轉(zhuǎn)換成指數(shù)光譜的形式進行數(shù)據(jù)處理，將雜亂無章的波動曲線轉(zhuǎn)換成有規(guī)則的自相關(guān)C(t)函數(shù)曲線。

通過自相關(guān)C(t)函數(shù)曲線得到衰變常數(shù)τ，通過下面公示得到擴散系數(shù)D；

1/τ= 2DK2 （K是散射光波矢量，是一個常數(shù)）

最后在通過 Stokes-Einstein 方程，得到粒徑大小R:

公式中：
K = 玻爾茲曼常數(shù)；
T = 絕對溫度；
h = 溶液的剪切粘度；
R = 粒子大小的半徑；
D = 擴散系數(shù)；

Nicomp® 3000系列設(shè)備檢測原理圖

Nicomp® 3000系列納米激光粒度儀采用動態(tài)光散射原理檢測分析樣品的粒度分布?；诙嗥绽针娪竟馍⑸湓恚―oppler Electrophoretic Light Scattering，ELS）檢測ZETA電位。其主要用于檢測納米級別及微米級別的體系，粒徑檢測范圍0.3nm-10μm，ZETA電位檢測范圍為±500mV。動態(tài)光散射方法（DLS）從傳統(tǒng)的光散射理論中分離，關(guān)注瑞利散射區(qū)的小顆粒，主要用于檢測納米級別的分散體系。動態(tài)光散射是通過光強值的波動得到自相關(guān)函數(shù)，從而獲得衰減時間常量τ，進而計算獲得粒子的擴散速度D（Diffusion Coefficient，擴散系數(shù)），代入Stokes-Einstein方程式，就可以計算得到顆粒的半徑。

Zeta電勢電位測定：Nicomp® Z3000結(jié)合了動態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS）,實現(xiàn)了同機測試亞微米粒子分布和ZETA電勢電位。ELS是將電泳和光散射結(jié)合起來的一種新型光散射，它的光散射理論基礎(chǔ)是準彈性碰撞理論，在實驗時通過在樣品槽中外加一個外電場，帶電粒子即會以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動，與之相應(yīng)的動態(tài)光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動速度，因此由實驗測得的譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而得到電位值。通過測試顆粒之間的排斥力，判斷體系穩(wěn)定性的測量手段之一。

相位分析法（PALS）:用相位（Phase）變化的分析取代原先頻譜的漂移，不僅使Zeta電位分析的精度及穩(wěn)定性有了顯著的提高，而且突破了水相體系的限制，對有機相體系同樣能提供Zeta電位的精確分析。

產(chǎn)品優(yōu)勢
PRODUCT HIGHLIGHT
   

0.9°步進型多角度（MADLS）真正的多角度模塊

不同粒徑的納米粒子，尤其是粒徑遠小于激光波長的粒子在傳統(tǒng)的動態(tài)光散射理論下，力度分布（PSD）會失去一些細節(jié)。Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列開創(chuàng)性地配備了可以從14.4°-180°范圍內(nèi)，步長0.9°的多角度模塊，對特殊樣品（如極小粒徑）可以選用合適的角度進行檢測，顯著提高對復雜體系的分辨力。

專有的Nicomp®多峰分布，可分辨1:2的多組分

Entegris（PSS）Nicomp® 3000系列搭載了Nicomp®多峰算法，可以有效區(qū)分不同粒徑（1：2的不同組分），為復雜體系和多組分體系提供了強有力的生產(chǎn)工具。
（下圖為同一復雜體系樣品分別在高斯算法和Nicomp®算法所呈現(xiàn)的結(jié)果）

高斯粒徑分布圖

Nicomp®多峰粒徑分布圖

超高分辨率的納米檢測精度

通過蛋白質(zhì)樣品的測試，Nicomp® 納米激光粒度儀對于小于10nm的粒子，依然顯示超高的分辨率和準確度。Nicomp® 納米激光粒度儀的這種超高分辨率可以有效幫助研究人員更準確更真實的檢測出樣品粒度分布。

如下圖，蛋白質(zhì)單聚體的粒徑大小為1.7nm

蛋白質(zhì)雙聚體的理論粒徑大小為1.7nm的兩倍3.4nm。Nicomp®  3000系列測得的結(jié)果為2.9nm左右。這個數(shù)值符合實際粒徑大小。

針對更復雜的四聚體，其理論粒徑為單聚體的4倍6.8nm。Nicomp® 3000系列測得的結(jié)果為5.7nm。這個數(shù)值符合實際粒徑大小。

將上述3個數(shù)據(jù)疊加，我們可以清晰地看到在10nm以下仍然能得到粒徑相差很小的3個峰，顯示Nicomp® 3000系列儀器有超高的分辨率和靈敏度。

自動稀釋模塊和自動進樣模塊，減少試錯成本和人工誤差

Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列在動態(tài)光散射法上應(yīng)用了自動稀釋模塊和自動進樣模塊，既可以有效避免人工稀釋所帶來的試錯成本和誤差，更可以實現(xiàn)檢測的自動化操作，為大批量的檢測提供了良好的解決方案。

Multiple sample trays available

3×7 samples-30mm tube（50mL）
4×10 samples-20mm tube（20mL）
5×12 samples-16mm tube（14mL）
6×15 samples-13mm tube（7mL）

復用型直插靶電級，減少耗材成本

Zeta電位檢測模塊，采用雙列直插式靶電極，清潔方便，易于清洗，可以反復使用。既保護了環(huán)境，也大大減少了使用一次性可丟棄的電極模塊的成本。

PMT&APD雙檢測器

Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列可以裝配高靈敏度的光電倍增管檢測器以及雪崩二極管檢測器，相比較傳統(tǒng)的光電倍增管有7-10倍放大增益效果。

軟件工作站
SOFTWARE WORKSTATION
   

全面的權(quán)限管理

靈活設(shè)置用戶管理權(quán)限，增加安全性?？稍O(shè)置密碼復雜度，自動登出時間，密碼修改時限，滿足CSV計算機系統(tǒng)驗證。

1.用戶管理
2.允許編輯測樣方法
3.數(shù)據(jù)庫管理
4.鏈接驅(qū)動
4.允許用戶用儀器測量樣品
5.對主機中固件更新（工程師權(quán)限）
6.密碼權(quán)限設(shè)置
7.可看、輸出、更改數(shù)據(jù)自動備份位置
8.更改重新計算測試數(shù)據(jù)
9.導入曲線
10.曲線校準（不對用戶開放）
11.增加減少報告模板
12.允許打印或?qū)С鰣蟾?br/>13.刪除測樣數(shù)據(jù)（僅軟件界面看不到，數(shù)據(jù)庫數(shù)據(jù)依然存在，并可還原）
14. 刪除測樣數(shù)據(jù)
15. 刪除報告
16. 刪除文件

完整的審計追蹤

具備詳細的審計追蹤記錄，支持日志導出打印，記錄用戶登錄期間所有操作，可根據(jù)操作類型、時間、項目等檢索。

多種數(shù)據(jù)備份方式

數(shù)據(jù)備份支持手動、自動備份到文件路徑。備份內(nèi)容包含完整數(shù)據(jù)內(nèi)容、操作方法、審計追蹤記錄日志等。

軟件測試界面

簡潔明了，支持不同權(quán)重，不同分析模型實時切換，可快速查詢不同指標。

儀器參數(shù)
INSTRUMENT SPECIFICATION