Nicomp® 3000
納米激光粒度儀

動(dòng)態(tài)光散射儀

具有50+年歷史
專為復(fù)雜體系提供高精度粒度解析方案
助您探索納米宇宙的精微奧秘！

0.9°步進(jìn)型多角度（MADLS）真正的多角度模塊

不同粒徑的納米粒子，尤其是粒徑遠(yuǎn)小于激光波長的粒子在傳統(tǒng)的動(dòng)態(tài)光散射理論下，力度分布（PSD）會(huì)失去一些細(xì)節(jié)。Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列開創(chuàng)性地配備了可以從14.4°-180°范圍內(nèi)，步長0.9°的多角度模塊，對(duì)特殊樣品（如極小粒徑）可以選用合適的角度進(jìn)行檢測(cè)，顯著提高對(duì)復(fù)雜體系的分辨力。

復(fù)用型直插靶電級(jí)，減少耗材成本

Zeta電位檢測(cè)模塊，采用雙列直插式靶電極，清潔方便，易于清洗，可以反復(fù)使用。既保護(hù)了環(huán)境，也大大減少了使用一次性可丟棄的電極模塊的成本。

專有的Nicomp®多峰分布，可分辨1:2的多組分

Entegris（PSS）Nicomp® 3000系列搭載了Nicomp®多峰算法，可以有效區(qū)分不同粒徑（1：2的不同組分），為復(fù)雜體系和多組分體系提供了強(qiáng)有力的生產(chǎn)工具。

（下圖為同一復(fù)雜體系樣品分別在高斯算法和Nicomp®算法所呈現(xiàn)的結(jié)果）

高斯粒徑分布圖

Nicomp®多峰粒徑分布圖

自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊，減少試錯(cuò)成本和人工誤差

Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列在動(dòng)態(tài)光散射法上應(yīng)用了自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊，既可以有效避免人工稀釋所帶來的試錯(cuò)成本和誤差，更可以實(shí)現(xiàn)檢測(cè)的自動(dòng)化操作，為大批量的檢測(cè)提供了良好的解決方案。

產(chǎn)品介紹
PRODUCT INTRODUCTION
   

Nicomp® Z3000納米粒度及ZETA電位分析儀

檢測(cè)范圍

粒徑檢測(cè)：0.3nm-10.0μm

Zeta電位：-500mV-+500mV

應(yīng)用領(lǐng)域

MINI DLS在線納米激光粒度儀/在線動(dòng)態(tài)光散射儀

無需校準(zhǔn)
*hydrodynamic radius，流體動(dòng)力學(xué)半徑

應(yīng)用領(lǐng)域

均質(zhì)機(jī)/研磨機(jī)下游的粒度控制
脂質(zhì)體和乳劑等納米制劑產(chǎn)品的生產(chǎn)監(jiān)控
CMP漿料（研磨液）的磨損監(jiān)控
納米材料生產(chǎn)過程中粒度監(jiān)控

儀器原理
PRINCIPLE
   

動(dòng)態(tài)光散射方法(Dynamic Light Scattering)原理示意圖

Zeta電位工作原理示意圖

Zeta電位用于測(cè)試顆粒之間排斥力 ，是判斷體系穩(wěn)定性的測(cè)量手段。

布朗運(yùn)動(dòng)的一個(gè)重要特點(diǎn)是：小粒子運(yùn)動(dòng)快速，大顆粒運(yùn)動(dòng)緩慢。由于粒子在不停地運(yùn)動(dòng)，散射光斑也將出現(xiàn)移動(dòng)。由于粒子四處運(yùn)動(dòng)，散射光的相位疊加，將引起光亮區(qū)域和黑暗區(qū)域呈光強(qiáng)方式增加和減少或以另一種方式表達(dá)，光強(qiáng)也成波動(dòng)形式。即：粒子的布朗運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致光強(qiáng)的波動(dòng)。

通過拉普拉斯逆轉(zhuǎn)換，將光信號(hào)轉(zhuǎn)換成指數(shù)光譜的形式進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，將雜亂無章的波動(dòng)曲線轉(zhuǎn)換成有規(guī)則的自相關(guān)C(t)函數(shù)曲線。

通過自相關(guān)C(t)函數(shù)曲線得到衰變常數(shù)τ，通過下面公示得到擴(kuò)散系數(shù)D；

1/τ= 2DK2 （K是散射光波矢量，是一個(gè)常數(shù)）

最后在通過 Stokes-Einstein 方程，得到粒徑大小R:

公式中：
K = 玻爾茲曼常數(shù)；
T = 絕對(duì)溫度；
h = 溶液的剪切粘度；
R = 粒子大小的半徑；
D = 擴(kuò)散系數(shù)；

Nicomp® 3000系列設(shè)備檢測(cè)原理圖

Nicomp® 3000系列納米激光粒度儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析樣品的粒度分布?；诙嗥绽针娪竟馍⑸湓恚―oppler Electrophoretic Light Scattering，ELS）檢測(cè)ZETA電位。其主要用于檢測(cè)納米級(jí)別及微米級(jí)別的體系，粒徑檢測(cè)范圍0.3nm-10μm，ZETA電位檢測(cè)范圍為±500mV。動(dòng)態(tài)光散射方法（DLS）從傳統(tǒng)的光散射理論中分離，關(guān)注瑞利散射區(qū)的小顆粒，主要用于檢測(cè)納米級(jí)別的分散體系。動(dòng)態(tài)光散射是通過光強(qiáng)值的波動(dòng)得到自相關(guān)函數(shù)，從而獲得衰減時(shí)間常量τ，進(jìn)而計(jì)算獲得粒子的擴(kuò)散速度D（Diffusion Coefficient，擴(kuò)散系數(shù)），代入Stokes-Einstein方程式，就可以計(jì)算得到顆粒的半徑。

Zeta電勢(shì)電位測(cè)定：Nicomp® Z3000結(jié)合了動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS）,實(shí)現(xiàn)了同機(jī)測(cè)試亞微米粒子分布和ZETA電勢(shì)電位。ELS是將電泳和光散射結(jié)合起來的一種新型光散射，它的光散射理論基礎(chǔ)是準(zhǔn)彈性碰撞理論，在實(shí)驗(yàn)時(shí)通過在樣品槽中外加一個(gè)外電場(chǎng)，帶電粒子即會(huì)以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動(dòng)，與之相應(yīng)的動(dòng)態(tài)光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動(dòng)速度，因此由實(shí)驗(yàn)測(cè)得的譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而得到電位值。通過測(cè)試顆粒之間的排斥力，判斷體系穩(wěn)定性的測(cè)量手段之一。

相位分析法（PALS）:用相位（Phase）變化的分析取代原先頻譜的漂移，不僅使Zeta電位分析的精度及穩(wěn)定性有了顯著的提高，而且突破了水相體系的限制，對(duì)有機(jī)相體系同樣能提供Zeta電位的精確分析。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
PRODUCT HIGHLIGHT
   

0.9°步進(jìn)型多角度（MADLS）真正的多角度模塊

不同粒徑的納米粒子，尤其是粒徑遠(yuǎn)小于激光波長的粒子在傳統(tǒng)的動(dòng)態(tài)光散射理論下，力度分布（PSD）會(huì)失去一些細(xì)節(jié)。Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列開創(chuàng)性地配備了可以從14.4°-180°范圍內(nèi)，步長0.9°的多角度模塊，對(duì)特殊樣品（如極小粒徑）可以選用合適的角度進(jìn)行檢測(cè)，顯著提高對(duì)復(fù)雜體系的分辨力。

專有的Nicomp®多峰分布，可分辨1:2的多組分

Entegris（PSS）Nicomp® 3000系列搭載了Nicomp®多峰算法，可以有效區(qū)分不同粒徑（1：2的不同組分），為復(fù)雜體系和多組分體系提供了強(qiáng)有力的生產(chǎn)工具。
（下圖為同一復(fù)雜體系樣品分別在高斯算法和Nicomp®算法所呈現(xiàn)的結(jié)果）

高斯粒徑分布圖

Nicomp®多峰粒徑分布圖

超高分辨率的納米檢測(cè)精度

通過蛋白質(zhì)樣品的測(cè)試，Nicomp® 納米激光粒度儀對(duì)于小于10nm的粒子，依然顯示超高的分辨率和準(zhǔn)確度。Nicomp® 納米激光粒度儀的這種超高分辨率可以有效幫助研究人員更準(zhǔn)確更真實(shí)的檢測(cè)出樣品粒度分布。

如下圖，蛋白質(zhì)單聚體的粒徑大小為1.7nm

蛋白質(zhì)雙聚體的理論粒徑大小為1.7nm的兩倍3.4nm。Nicomp®  3000系列測(cè)得的結(jié)果為2.9nm左右。這個(gè)數(shù)值符合實(shí)際粒徑大小。

針對(duì)更復(fù)雜的四聚體，其理論粒徑為單聚體的4倍6.8nm。Nicomp® 3000系列測(cè)得的結(jié)果為5.7nm。這個(gè)數(shù)值符合實(shí)際粒徑大小。

將上述3個(gè)數(shù)據(jù)疊加，我們可以清晰地看到在10nm以下仍然能得到粒徑相差很小的3個(gè)峰，顯示Nicomp® 3000系列儀器有超高的分辨率和靈敏度。

自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊，減少試錯(cuò)成本和人工誤差

Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列在動(dòng)態(tài)光散射法上應(yīng)用了自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊，既可以有效避免人工稀釋所帶來的試錯(cuò)成本和誤差，更可以實(shí)現(xiàn)檢測(cè)的自動(dòng)化操作，為大批量的檢測(cè)提供了良好的解決方案。

Multiple sample trays available

3×7 samples-30mm tube（50mL）
4×10 samples-20mm tube（20mL）
5×12 samples-16mm tube（14mL）
6×15 samples-13mm tube（7mL）

復(fù)用型直插靶電級(jí)，減少耗材成本

Zeta電位檢測(cè)模塊，采用雙列直插式靶電極，清潔方便，易于清洗，可以反復(fù)使用。既保護(hù)了環(huán)境，也大大減少了使用一次性可丟棄的電極模塊的成本。

PMT&APD雙檢測(cè)器

Entegris（PSS）Nicomp® 3000 系列可以裝配高靈敏度的光電倍增管檢測(cè)器以及雪崩二極管檢測(cè)器，相比較傳統(tǒng)的光電倍增管有7-10倍放大增益效果。

軟件工作站
SOFTWARE WORKSTATION
   

全面的權(quán)限管理

靈活設(shè)置用戶管理權(quán)限，增加安全性?？稍O(shè)置密碼復(fù)雜度，自動(dòng)登出時(shí)間，密碼修改時(shí)限，滿足CSV計(jì)算機(jī)系統(tǒng)驗(yàn)證。

1.用戶管理
2.允許編輯測(cè)樣方法
3.數(shù)據(jù)庫管理
4.鏈接驅(qū)動(dòng)
4.允許用戶用儀器測(cè)量樣品
5.對(duì)主機(jī)中固件更新（工程師權(quán)限）
6.密碼權(quán)限設(shè)置
7.可看、輸出、更改數(shù)據(jù)自動(dòng)備份位置
8.更改重新計(jì)算測(cè)試數(shù)據(jù)
9.導(dǎo)入曲線
10.曲線校準(zhǔn)（不對(duì)用戶開放）
11.增加減少報(bào)告模板
12.允許打印或?qū)С鰣?bào)告
13.刪除測(cè)樣數(shù)據(jù)（僅軟件界面看不到，數(shù)據(jù)庫數(shù)據(jù)依然存在，并可還原）
14. 刪除測(cè)樣數(shù)據(jù)
15. 刪除報(bào)告
16. 刪除文件

完整的審計(jì)追蹤

具備詳細(xì)的審計(jì)追蹤記錄，支持日志導(dǎo)出打印，記錄用戶登錄期間所有操作，可根據(jù)操作類型、時(shí)間、項(xiàng)目等檢索。

多種數(shù)據(jù)備份方式

數(shù)據(jù)備份支持手動(dòng)、自動(dòng)備份到文件路徑。備份內(nèi)容包含完整數(shù)據(jù)內(nèi)容、操作方法、審計(jì)追蹤記錄日志等。

軟件測(cè)試界面

簡潔明了，支持不同權(quán)重，不同分析模型實(shí)時(shí)切換，可快速查詢不同指標(biāo)。

儀器參數(shù)
INSTRUMENT SPECIFICATION