圓珠筆用炭黑水性色漿的分散設備，炭黑水性色漿的分散方法，顏料濃縮漿的分散設備，德國研磨分散機，循環式研磨分散機，中試型研磨分散機，

IKN研磨分散機能夠實現自動控制，且操作簡單方便，機器運行很穩定。機器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到較全面的清洗。

色漿是一種顏料濃縮漿，即利用不同的顏料，通過對顏料表面處理、表面包裹等技術，經過嚴密的加工工藝研制而成顏料分散體系。色漿可以用于涂料、油墨、墨水等的著色。根據所使用的溶劑不同，色漿分為水性色漿、油性色漿、水油通用色漿等。水性產品良好的環保性使其應用不斷擴展，也相應地不斷推動水性色漿的發展。炭黑水性色漿的一大重要用途就是圓珠筆用水性墨水和中性墨水的著色劑。圓珠筆墨水用水性顏料色漿除了基本的分散穩定性之外，還要求顏料粒子粒徑足夠小(D90< 350 nm)，色漿具有足夠低的黏度、高的表面張力和低的電導率。這樣，通過才能與增稠劑及其它助劑配合調制出應用性能優良的圓珠筆墨水。

炭黑作為一種典型的納米材料，原生粒子尺寸小(通常<100nm)、表面能高，極易聚集成較大的顆粒，很難穩定分散于不同體系中，限制了炭黑性能的充分發揮，影響到下游制品的質量和性能，成為炭黑應用的一大瓶頸。炭黑的分散主要受制于三個因素：炭黑本身的特性、載體或分散介質的類型、分散工藝和分散設備。

炭黑的分散好不好重要的還是取決于分散劑和分散設備，大家都知道，炭黑額原生粒徑都是＜100nm，則遇到液體之后就會形成團聚力，要想很好的將團聚力打開必須使用超高轉速及剪切力的設備，依肯機械研磨分散機即可實現這一步，炭黑結構控制劑為納米碳基材料。通過引入異質材料，一方面控制炭黑的結構(領苯二甲酸二丁酯吸收值)，改變炭黑的粒徑分布，另一方面降低炭黑與炭黑粒子之間的接觸面積，打破單一炭黑微粒之間的附聚平衡，降低炭黑顆粒之間的團聚力，提高炭黑的分散性能。

CMD2000模塊化設計主要由兩層分散頭構成，工作時，物料通過投料口進入分散腔，首先到達層分散頭進行處理，由于馬達帶動轉子齒列高速運轉，產生渦流和離心力效應使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切，接著流出的物料進入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進行剪切（原理同上），從而確保混合分散獲得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩定性更好，滿足生產時對于粒徑的要求。

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)  
              g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

CMSD2000系列研磨分散機設備選型表

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%