浸膏通常是指用有機溶劑浸提不含有滲出物的香料植物組織（如花、葉枝、莖、樹皮、根、果實等）中所得的香料制品，成品中不含原用的溶劑和水分。中藥浸膏是浸膏中用途和生產zui廣泛的一種，得到各企業的親睞。中藥浸膏納米研磨分散機，GMP醫藥高剪切納米研磨機，中藥混懸液研磨分散機，醫藥高速濕磨機，GMP高剪切納米研磨機，浸膏混懸液研磨分散機，藥物混懸液研磨分散機，三級研磨分散機，進口研磨分散機

 粉碎操作的種類（按細度分）

①粗粉碎：原料粒度在40～1500mm范圍內，成品粒度若5～50mm

②中粉碎：原料粒度在10～100mm 范圍內 ，成品粒度若 5～10mm

③微粉碎：原料粒度在5～10 mm 范圍內 ， 成品粒度若100μm以下

④超微粉碎：原料粒度0.5～5mm范圍內，成品粒度10～25μm以下。

粉碎研磨分散的本質是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹，近似穩定均一狀態的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態的平衡。

產品效果：
guo內粉碎機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產品粒徑分布不均勻
IKN高剪切粉碎機，可實現0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎

 中藥干膏粉混懸液在上海依肯實驗的過程大致如下： 
  
 將中藥浸膏干粉加入到植物油當中，然后再加入一些輔料添加劑，*行預混合，將物料攪拌均勻，然后通過IKN三級高剪切研磨分散機進行均質乳化，通過IKN研磨分散機打一遍后，用手去摸基本沒有顆粒感，相當于傳統膠體磨研磨2天的效果。IKN研磨分散機轉速高達14000rpm，是傳統設備的4-5倍，并且定轉子間距小，定轉子結構精密，這些都會決定設備的研磨均質的效果。IKN三級研磨分散機工作腔體帶夾套可以降溫和加熱，充分控制好物料的溫度，避免物料變性。
 

IKN研磨分散機采用的是剪切研磨的方式，作用是對分子間作用力進行一個解聚的過程，從而bao證了分子結構的完整性，zui大程度保留了其性能。中藥浸膏納米研磨分散機，GMP醫藥高剪切納米研磨機，中藥混懸液研磨分散機，醫藥高速濕磨機，GMP高剪切納米研磨機，浸膏混懸液研磨分散機，藥物混懸液研磨分散機，三級研磨分散機，進口研磨分散機

第1級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽，定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離，在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。這樣的設計可以保障物料初始顆粒較大時，可以順暢進入研磨分散機腔體，通過高速旋轉的精細度遞升磨頭，zui終得到微納米級的物料顆粒。

第2級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子、轉子和批次式機器的工作頭設計的不同主要在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

影響研磨效果的因素：

1 磨頭的形式（臥式和立式）

2 磨頭頭的剪切速率

3 磨頭的齒形結構（見磨頭結構）

4 物料在磨頭墻體的停留時間，乳化分散時間

5 循環次數

研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，研磨速率取決于以下因素：

• 磨頭的線速率
• 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 （相對而言）

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

IKN設備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

上海依肯IKN高剪切研磨分散機，采用德國xian進的技術，設備轉速可高達14000rpm，是guo產設備的4-5倍；磨頭結構為三級錯齒，溝槽深度從上到下為由深到淺，溝槽的寬度也是從上到下為由大到小，這樣每級都會對物料更進一步的研磨粉碎。而guo產分散機從上到下的寬度都是*的，所以研磨粉碎的效果很有限。IKN分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，并配有機密冷卻系統，在確保冷卻水的情況下，可24小時連續生產。中藥浸膏納米研磨分散機，，中藥混懸液研磨分散機，醫藥高速濕磨機，GMP高剪切納米研磨機，浸膏混懸液研磨分散機，藥物混懸液研磨分散機，三級研磨分散機，進口研磨分散機
 

特點：

1、CMSD2000研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在45DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到更低，保證機器連續24小時不停機運行。

2、CMSD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CMSD2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMSD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。