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s-SNOM散射式近場光學(xué)顯微鏡

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更新時間：2023-01-27 21:35:26瀏覽次數(shù)：266次

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產(chǎn)品簡介

詳細(xì)內(nèi)容s-SNOM技術(shù)使用金屬鍍層的原子力（AFM）探針針尖代替?zhèn)鹘y(tǒng)光纖探針來增強(qiáng)樣品的納米尺度區(qū)域的散射，散射信號可以在遠(yuǎn)場被檢測到

詳細(xì)介紹

詳細(xì)內(nèi)容

s-SNOM技術(shù)使用金屬鍍層的原子力（AFM）探針針尖代替?zhèn)鹘y(tǒng)光纖探針來增強(qiáng)樣品的納米尺度區(qū)域的散射，散射信號可以在遠(yuǎn)場被檢測到。而這些散射信號攜帶了樣品在金屬探針針尖下納米區(qū)域的復(fù)雜光學(xué)性質(zhì)。具體而言，這些散射光的信息包括光的振幅和相位，通過適當(dāng)?shù)哪Ｐ停@些測量可以估算出針尖下樣品納米尺度區(qū)域材料的光學(xué)常數(shù)（n，k）。在某些情況下，光學(xué)相位與波長還提供了個與同種材料常規(guī)吸收光譜近似的光譜信息。

瑞宇科技的散射式近場光學(xué)顯微鏡建立在基于具有先地位的納米光學(xué)表征工具原子力顯微鏡AFM的基礎(chǔ)之上。s-SNOM設(shè)計具有不錯的性能，高度集成，全面自動化，使用靈活，為研究生產(chǎn)力和易用性設(shè)定了新的標(biāo)準(zhǔn)。

應(yīng)用：

由于瑞宇科技的散射式近場光學(xué)顯微鏡和光譜譜圖的可靠性和可重復(fù)性，s-SNOM業(yè)已成為納米光學(xué)域熱點(diǎn)研究方向的推薦科研設(shè)備，廣泛適用于各種無機(jī)物和有機(jī)物，如表面等離子體、納米天線、2D材料（石墨烯，BN），納米結(jié)構(gòu)，半導(dǎo)體，絕緣體，生命科學(xué)，高分子材料等，在等離基元、納米FTIR和太赫茲等眾多研究方向得到許多重要科研成果。

石墨烯等離子體的s-SNOM相位和振幅圖像（上—相位圖像三維視圖；左—相位和SPP駐波線橫截面；右—s-SNOM振幅圖）

光學(xué)近場顯微鏡的光譜和成像。（上—波長相關(guān)的復(fù)雜光學(xué)性質(zhì)；下左—共振（1659cm-1）的s-SNOM相位圖像；下右—非共振（1605cm-1）的s-SNOM相位圖像）

s-SNOM圖像顯示了棒狀天線上的偶子散射。（上—覆蓋在形貌圖上的s-SNOM圖像；下左—AFM圖像；下右—s-SNOM圖像）

紫外膜的s-SNOM測量揭示了蛋白質(zhì)在脂質(zhì)膜內(nèi)的分布。（上—AFM高度圖；下左—當(dāng)紅外激光源調(diào)諧到酰胺I吸收帶產(chǎn)生共振時（1667cm-1）s-SNOM相位圖像；下右—非共振時（1618cm-1）s-SNOM相位圖像）

產(chǎn)品特點(diǎn)：

10nm空間分辨率近場成像和光譜；

利的快速成像和采譜技術(shù)，10倍于傳統(tǒng)的空間光譜成像；

利背景壓制技術(shù)和高效光學(xué)信號收集技術(shù)，確保在10nm空間分辨率下仍然保持高的信噪比；

預(yù)先校準(zhǔn)光路，操作其簡便；

模塊化設(shè)計，可拓展性強(qiáng)；

產(chǎn)品參數(shù)：

光學(xué)分辨率：1.5um