Load-lock式Plasma CVD設備CC-200/400是小型的使用便利的可對應從研究開發到量產的設備。

產品特性：

?27.12MHz高密度等離子制程

?SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可對應SiO2膜

?以CF4+O2 Plasma實現腔體清潔功能

?可對應有機EL（OLED）的低溫成膜用heater

?使用Tray可搬送多種基板尺寸

?通過使用真空Box實現C系列的間接連續制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）

產品應用：

?功率器件

?LED、LD、高速device等化合物相關

?有機EL（OLED）開發

?太陽電池開發

?MEMS