ULVAC愛發科多腔濺射設備Entron EX W300是在Al、Cu、高熔點金屬布線工序中有很多實績的單片式多室對應平臺。適應下一代流程的SIS（Self-Ion Sputter）-PVD、金屬CVD/ALD、DRY預處理模塊的組合且可提供性價比。

特點：

基于我們傳統型號 ENTRON-W300 / W200 系列的型號，改進主要旨在提高生產力。

最多可安裝 8 個工藝（PVD、ALD、CVD 等），外加 2 個（脫氣、冷卻）模塊。

配備我們的新型搬運機器人，機械吞吐量達到 100wph 或更高。

我們提供專用工藝或小型晶圓廠的 S 型（單一型）和支持大型晶圓廠的 T 型（串聯型），并靈活應對客戶的生產計劃。

可配備監控和管理設備運行狀態的ED-PMS系統和非接觸式膜厚測量設備MESEC-BIT。