PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統。

該系統由于采用了大型反應室，并通過載盤裝載多片晶圓進行批量處理，因此產量較高。在直徑360mm的區域內可以沉積出具有優異的厚度均勻性和應力控制的薄膜，具有優異的穩定性和可重復性。用戶友好的觸摸屏界面用于參數控制和配方存儲。該系統是大規模生產用薄膜沉積的理想選擇，具有優異的重復性。

主要特點和優勢

加工范圍：?360 mm (?3" x 9, ?4" x 6, ?6" x 3)

優異的均勻性和應力控制

的工藝穩定性和可重復性

堅固的系統，的運行/維護成本

用戶友好的觸摸屏界面，用于參數控制和配方存儲。

應用

SiH4-SiNx

SiH4-SiO2

液體前驅體(SN-2)SiNx。

TEOS-SiO2